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巴斯夫贏創(chuàng)合作研發(fā)化學(xué)機(jī)械研磨液
2009年1月31日
  贏創(chuàng)和巴斯夫近日宣布,雙方將合作發(fā)展二氧化鈰研磨液來制造計(jì)算機(jī)芯片。雙方預(yù)期合作研發(fā)出的研磨液將在2009年商品化。
  
  據(jù)介紹,研磨液內(nèi)含有納米材料如鈰元素,可用在CMP (化學(xué)機(jī)械研磨) 制程中拋光二氧化硅的晶片表面,以達(dá)到非常平坦的效果。集成電路制造過程中最重要的步驟就是STI(淺溝槽隔離) 和ILD (內(nèi)層介電層),而STI則需要使用到CMP研磨液。
  
  贏創(chuàng)無機(jī)材料事業(yè)部有關(guān)負(fù)責(zé)人介紹,隨著較小尺寸芯片的問世,CMP對于集成電路的制備日益重要。贏
 
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